全幅面方块电阻与层厚在线测量方案
基于非接触涡流技术,通过高速、高精度的多传感器在线监测,全面提升薄膜镀层与基底的生产质量。
- 非接触式实时测量
- 高速采样,最高达 50 次/秒
- 支持固定式传感器安装或扫描式传感器安装
- 每套系统可集成 1 至 99个监测通道
- 适用于大气环境及真空环境下的过程控制
- 多种应用中可实现贴近基底边缘的测量
- 温度补偿功能确保在环境变化条件下的长期稳定性
- 支持大间距测量(例如测量间隙达 60 mm / 2.4 英寸)
- 可表征被覆盖的导电层或封装后的基底
- 软件内置丰富的数据分析与统计功能
- 通过 EddyCus RampUp 软件轻松完成系统配置,含校准向导
- 无接触、无磨损
简介
EddyCus® 在线传感器阵列采用可堆叠式 8 传感器模块设计,实现涡流全幅面监测。根据不同配置,单套系统最多可扩展至 128 个测量通道,对镀层进行实时在线监控。
EddyCus 全幅面在线方案能够监测小幅面及大幅面镀层的整个宽度方向,从而实现对产品质量与工艺状态的全面追踪。只有能够测量的指标才有改善的空间——我们的方案让您真正掌握镀层均匀性的完整信息,获得超越竞争对手的决定性优势。借助配套软件,数据的可视化与深度分析同样轻松高效。
EddyCus® 在线系列以非接触方式测量各类基底上的导电层特性,包括金属层厚度和方块电阻。典型基底材料涵盖玻璃、箔材、纸张、晶圆、塑料及陶瓷。系统支持连续测量模式和触发测量模式——前者适用于高速镀膜产线中获取等距分布的测量数据,后者适用于在小型试样的指定位置进行精准测量。系统可在大气环境和真空环境下运行。高采样率的测量数据可直接接入过程控制系统或客户端软件。此外,SURAGUS 提供专用监控软件 EddyCus inline control,用于计量数据的可视化、存储和分析。
传感器功能
- 方块电阻范围:0.0001 – 100,000 Ω/□
- 金属层厚度范围:2 nm – 2 mm
- 测量间隙最大 75 mm
- 扫描间距 40 mm
- 最多支持 128 个传感器
支持的基底类型
箔材、玻璃、晶圆、纸张等。
EddyCus® 在线传感器数据表
系统功能
| 测量技术 | 非接触涡流传感器 |
| 适用基底 | 箔材、玻璃、晶圆、纸张等 |
| 测量间隙 | 3 / 5 / 10 / 15 / 25 / 50 / 75 mm |
| 监测通道数 | 最多 128 个传感器 |
| 导电层类型 | 金属 / TCO / CNT / 纳米线 / 石墨烯 / 网格电极 / PEDOT / 其他 |
| 扫描间距 | 40 mm(可按需定制 5 mm – 100 mm) |
| 工作环境 | 腔外 / 真空腔内,环境温度 < 60°C / 140°F(按需可达 < 90°C / 194°F) |
| 采样率 | 1 / 10 / 50 次/秒 |
| 硬件触发 | 5 / 12 / 24 V |
| 通信接口 | UDP、.Net 库、TCP、Modbus、模拟/数字信号 |
| 可选配置 | 8 传感器阵列,40 mm 间距(阵列总宽 320 mm)* 16 传感器阵列,40 mm 间距(阵列总宽 640 mm)* 32 传感器阵列,40 mm 间距(阵列总宽 1,280 mm)* 48 传感器阵列,40 mm 间距(阵列总宽 1,920 mm)* 64 传感器阵列,40 mm 间距(阵列总宽 2,560 mm)* * 配标准传感器外壳 |
测量能力
| 方块电阻测量 | |
|---|---|
方块电阻范围 (可在客户指定的方块电阻量程范围内优化精度) |
0.0001 – 100,000 Ω/□, 精度 2% – 7% | 金属薄膜(如铜)厚度测量范围 | 2 nm – 2 mm(取决于方块电阻,参见在线计算器) |
