用于 沉积集群工具的改装式传感器集成

通过基于非接触式涡流技术的快速、精确的近程测量,提高薄膜质量。

记录每个晶片在沉积前后的线剖面图。
薄膜电阻 – 金属层厚度 – 电阻率

简介

EddyCus® 在线 ICM (互连模块)是安装在涂层室和中央晶片处理室之间的测量模块。它由两个在传输模式下工作的非接触式电涡流传感器 XXS 和一个连接模块组成。

它专门用于测量涂敷层的薄层电阻 [欧姆/平方英寸] 或金属层厚度 [纳米、微米] 或基底的电阻率 [毫欧-厘米]。软件记录的线剖面图可以让人了解涂层或基底的质量。提供适用于 Endura 等常见镀膜室的不同设计。

互联模块通常用于:

  • 升级现有沉积系统,使其具备测量功能
    • 加强即时质量控制
    • 板材电阻、金属层厚度和电阻率的线剖面图
  • 预测性维护

传感器功能

  • 板材电阻 [0.01 - 1,000 欧姆/平方英寸]
  • 金属层厚度 [5 纳米 – 2 毫米]
  • 电阻率 [0.1 - 100 欧姆-厘米]
  • 晶片温度

间隙大小

5 - 50 毫米(取决于晶片处理机)

支撑基底

150 - 300 毫米晶片

支持的接口

  • UDP
  • PROFINET
  • 技术发展局
  • .Net库
  • Modbus (即将推出)
  • EtherCAT(即将推出)

支持的尺寸

  • 150 毫米
  • 200 毫米
  • 300 毫米

功能和优点

可在
工艺晶片上进行测量

LIVE

沉积室内的即时反馈

Quality

通过增强运行控制提高沉积质量

Lifeme

优化目标寿命

更快地为新目标设置配方/更快地升级工具

通过更少的测试晶片实现更高的吞吐量

$

因无测试晶片而节省的费用 样品监测

Data

超规格晶片的即时制程数据

可用接口

  • UDP
  • PROFINET
  • 技术发展局
  • .Net库
  • Modbus (即将推出)
  • EtherCAT(即将推出)

分析选项

  • 板材电阻、金属层厚度、电阻率的线剖面图
  • 新材料配置的即时沉积数据
  • 晶圆到晶圆和第一晶圆效应
  • 室间效应
  • 运行控制数据
  • 目标寿命的影响

EddyCus® 嵌入式 ICM 视频

通过视频,您可以了解如何使用互联模块。可以分析哪些材料以及设备的总体工作原理。

图片库

EddyCus® 联机 ICM 数据表

系统功能

测量技术 非接触式高频涡流传感器
测量地点 在处理区和狭缝阀之间的空腔内安装
基板 晶圆、玻璃等
测量间隙尺寸 5 - 50 毫米(取决于晶片处理机)
模块尺寸 150 / 200 / 300 毫米
导电层 金属、合金及其他导电层
环境 真空环境 @ 温度最高可达 220 °C / 428 °F
采样率 线扫描模式下每秒可选1/10/50/100/1,000次测量
硬件触发器 5 / 12 / 24 V
接口 UDP、TCP、Rest-API、Modbus、Profinet、模拟/数字

测量能力

片电阻测量 片电阻测量范围 0.001 – 1,000 欧姆/平方(取决于间隙尺寸) 金属层厚度测量 金属薄膜厚度测量 (例如:铜、铝、银、金、镍、钛、钽、铂、钨) 5 纳米 – 2 毫米(根据面电阻而定)
电阻率测量
厚度测量范围 根据板材电阻

常见问题

板材电阻、金属层厚度、电阻率、