EddyCus® inline SLIM — 真空腔内集成测量模块

无需额外设备占地,利用现有闸阀或传输通道即可加装测量模块,在沉积工序前后直接获取关键工艺数据。

什么是智能链路集成模块(SLIM)?

EddyCus®在线式SLIM是一款用于沉积设备的非接触式涡流测量附件。该设备可直接集成于真空接口处,如闸阀、端口或传输连接件。系统能在沉积前后生成线性剖面图,在目标区域提供即时反馈。

这使得反应时间得以大幅缩短,并能显著减少甚至完全消除测试晶圆的使用。通过持续获取随时间变化的测量数据,目标部件的磨损和劣化情况变得清晰可见。

该工具配备两个以透射模式运行的非接触式涡流传感器。此配置可提供基材与导电涂层均匀性的高分辨率信息,即使在传感器间距达50毫米的情况下仍能实现。

典型测量范围:

  • 方阻:0.001 – 1,000 Ω/sq
  • 金属薄膜厚度:5 nm – 2 mm
  • 电阻率:0.1 – 100 mΩ·cm
  • 可选温度传感器
  • 基底总厚度:300 – 1,500 µm
  • 弓曲度:± 2 mm

传感器性能

  • 方阻 [0.001 – 1,000 Ω/sq]
  • 金属层厚度 [5 nm – 2 mm]
  • 电阻率 [0.1 – 100 mΩ·cm]

集成位置

真空腔内半贴合馈通接口,例如:

  • 闸阀
  • 端口
  • 传输通道

支持的基底

  • 150毫米,
  • 200毫米和
  • 300 mm 晶圆(硅、碳化硅等)

(硅、碳化硅等)

数据传输

数据通过专用盖板上的真空级馈通件传输,将传感器与控制单元连接。

通讯接口

  • UDP
  • TCP
  • REST API
  • Modbus
  • PROFINET
  • 模拟/数字 I/O

特性与优势 — EddyCus® inline SLIM 设备内置在线监测系统

2–12 英寸晶圆

非接触式上下双面检测

线性扫描分析

OPSResisvityTTVe.g.

多参数测量

减少测试晶圆用量

工艺漂移早期预警

操作简便

无需额外占地安装测试设备

无需重新认证的快速改装

安装EddyCus在线式SLIM装置快速且无创。只需将现有阀盖替换为带电缆穿孔的盖板。沉积设备保持原位并维持其认证资质。

改装步骤:

  • 拆下原装盖板
  • 卸下阀门
  • 将传感器探针插入晶圆传输路径
  • 重新安装阀门
  • 通过预留开口布设电缆
  • 安装带电缆馈通的替换盖板,连接至控制单元
  • 系统即可投入测量

典型安装时间不超过一小时。

腔内直接工艺控制 — 大幅削减测试晶圆用量

涡流在线测量技术将真空沉积工艺从周期性、基于测试晶圆的流程,转变为持续性、数据驱动的自监测系统。通过为实际生产晶圆提供实时厚度反馈,该技术:

  • 缩短资格认证周期
  • 降低测量延迟
  • 最大限度地减少不确定性
  • 无需专用监测和测试晶圆

因此,晶圆厂能够实现更高的吞吐量、更低的拥有成本,并显著减少非生产性晶圆使用率,同时保持甚至提升工艺稳定性和均匀性。

涡流检测与四点探针测量结果密切相关。
点击此处查看详细对比。

图片库

数据表用于EddyCus® inline SLIM

系统功能


UDP、TCP、REST API、Modbus、PROFINET、模拟/数字 I/O
测量技术 非接触式高频涡流传感器
测量位置 阀门或传输通道内真空安装
基底类型 晶圆、玻璃等
测量间隙 15 – 50 mm(取决于晶圆搬运器)
模块尺寸 150 / 200 / 300 mm
导电层类型 金属、合金及其他导电薄膜
使用环境 真空环境,温度最高 220 °C / 428 °F
采样率 线扫模式下可选 1 / 10 / 50 / 100 / 1,000 次/秒
硬件触发 5 / 12 / 24 V
通讯接口

测量能力

0.001 – 1,000 Ω/sq(取决于间隙尺寸)
方阻测量 方阻测量范围 金属层厚度测量 适用金属(Cu、Al、Ag、Au、Ni、Ti、Ta、Pt、W 等) 5 nm – 2 mm(对应方阻范围)
电阻率测量 电阻率测量范围 对应方阻范围

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常见问题

  • 方块电阻
  • 金属层厚度
  • 电阻率
  • 150毫米,
  • 200毫米和
  • 300毫米样品
  • 2–4英寸晶圆通过适配器
  • 片电阻线轮廓
  • 金属层厚度线轮廓
  • 电阻率剖面图